【摘要】 本发明公开了一种气体分配装置，包括：进气板、嵌入式分配板和下分配板；其中，所述进气板设有进气通路、以及与进气通路连通的容置部，所述嵌入式分配板嵌入容置部内；所述嵌入式分配板具有分配通路并且与容置部之间具有间隙；下分配板位于进气板的下面，将嵌入式分配板封装在所述容置部内。相应的，本发明还公开了一种采用所述气体分配装置的等离子体处理设备。所述的气体分配装置结构简单，对加工精度的要求较低，能够降低制造成本。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810116796.1 【申请日】2008-07-17 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101315880B 【公开公告日】2010-06-02 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101315880B 【授权公告日】2010-06-02 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】H01L21/00; H01L21/3065; C23F4/00; C23C16/455; H01J37/32; H05H1/00 【发明人】姚立强 【主权项内容】一种气体分配装置，其特征在于，包括：进气板、嵌入式分配板和下分配板；其中，所述进气板设有进气通路、以及与进气通路连通的容置部，所述嵌入式分配板嵌入容置部内；下分配板位于进气板的下面，将嵌入式分配板封装在所述容置部内；所述嵌入式分配板包括与所述进气通路相对的上表面，所述上表面中具有均匀分布的分配通路；所述嵌入式分配板还包括位于所述上表面周围的侧表面，所述侧表面中具有均匀分布的分配通路；所述上表面和侧表面之间形成有内腔，所述内腔和下分配板之间具有间隙；所述上表面和侧表面与容置部之间均具有间隙。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【引证次数】7.0 【他引次数】7.0 【家族引证次数】7.0 【家族被引证次数】14
