【摘要】 本发明提供一种气体分配装置和等离子体加工设备，所述气体分配装置包括：匀流板，分别位于所述匀流板两面的气体进入孔和至少两个气体分配孔，以及，与所述气体分配孔固定连接的分配部件；所述分配部件内具有与所述气体分配孔连通的气体通路，所述各个分配部件的气体通路长度不完全相同。所述气体分配装置能够灵活调整气体在装置内的传输路径，改善待加工基片上方气体分布的均匀性，进而改善等离子体分布的均匀性。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016北京市朝阳区酒仙桥东路一号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810247046.8 【申请日】2008-12-31 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101768733A 【公开公告日】2010-07-07 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】C23C16/513; C23F4/00 【发明人】李永军 【主权项内容】一种气体分配装置，包括：匀流板，分别位于所述匀流板两面的气体进入孔和至少两个气体分配孔，其特征在于，还包括：与所述气体分配孔固定连接的分配部件；所述分配部件内具有与所述气体分配孔连通的气体通路，所述各个分配部件的气体通路长度不完全相同。 【当前权利人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥东路一号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】4 【被自引次数】1.0 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】4
