【摘要】 本发明公开了一种可见/短、中波红外宽光谱分色片，该分色片以锗为基底，反射堆以ZnS和YF3为高低折射率材料，等效层采用SiO和Ge，采用离子源辅助、合适基底温度等特定工艺镀制而成。该分色片在入射角为45°下测得：透射区波段2.5～2.95μm，4.2～4.8μm，T＞90％；反射区波段0.55～0.75μm，R＞70％。本发明分色片产品性能稳定，适合于现代多光谱空间遥感仪器的分色使用。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院上海技术物理研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】200083 上海市玉田路500号 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】虹口区 【申请号】CN200810202261.6 【申请日】2008-11-05 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101403806B 【公开公告日】2010-06-09 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101403806B 【授权公告日】2010-06-09 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G02B5/20; G02B1/10; B32B7/02; C23C14/48; G02B1/115 【发明人】于天燕; 成效春; 秦杨; 刘定权; 张凤山 【主权项内容】1.一种基于锗基底的可见/红外宽光谱分色片，它由锗基底(1)、等效层(2)、反射堆(3)和减反膜(4)构成反0.55～0.75μm可见光透2.5～2.95μm短波红外和4.2～4.8μm中波红外的分色片，其特征在于，它具有以下膜系结构：A.锗基底(1)、等效层(2)、反射堆(3)构成的分色膜系基底/(1.728P 0.899Q 0.717P)(0.5H L 0.5H)^41.882L 1.107H 5.476L 0.246H/空气B.短中波红外减反射膜(4)膜系为：基底/0.482H 0.404Q 0.578H 0.946L 0.25H/空气其中：P、Q为两种红外薄膜材料，P为SiO，Q为Ge，H、L分别为ZnS和YF3。 【当前权利人】中国科学院上海技术物理研究所 【当前专利权人地址】上海市玉田路500号 【统一社会信用代码】12100000425005579K 【引证次数】1.0 【自引次数】1.0 【家族引证次数】1.0 【家族被引证次数】20
