【摘要】 本发明公开了一种化学机械抛光液，对介质材料的抛光效果具有较高的去除速率，同时含有的二聚哑铃形和/或多聚链形二氧化硅溶胶研磨颗粒的颗粒形状规则，抛光后的晶圆表面光洁度和平坦度较好，能够满足各种工艺条件下对介质材料表面的要求。 【专利类型】发明申请 【申请人】安集微电子(上海)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】浦东新区 【申请号】CN200810204101.5 【申请日】2008-12-05 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101747841A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】C09G1/02 【发明人】宋伟红; 姚颖 【主权项内容】一种化学机械抛光液，其含有二聚哑铃形和/或多聚链形二氧化硅溶胶研磨颗粒和水。 【当前权利人】安集微电子(上海)有限公司 【当前专利权人地址】上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 【专利权人类型】有限责任公司(外商投资企业法人独资) 【统一社会信用代码】91310000766495270K 【引证次数】7.0 【被引证次数】17 【自引次数】1.0 【他引次数】6.0 【被他引次数】17.0 【家族引证次数】8.0 【家族被引证次数】20
