【摘要】 本发明提供一种成像光学系统像差现场测量方法及装置，通过测量特定掩模标记所成的光刻机投影物镜空间像，通过对光刻机投影物镜空间像进行分析得到投影物镜像差。本方法相对于现有方法可大幅提高测量速度，克服现有技术存在的像差的测定时间长的缺点。 【专利类型】发明授权 【申请人】上海微电子装备有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】201203 上海市张江高科技园区张东路1525号 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】浦东新区 【申请号】CN200810040855.1 【申请日】2008-07-22 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101320219B 【公开公告日】2010-06-02 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101320219B 【授权公告日】2010-06-02 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03F7/20; G03F1/00; G02B27/00; G03F1/26 【发明人】王帆; 段立峰; 马明英; 孙刚 【主权项内容】一种成像光学系统像差现场测量方法，其特征在于，包括以下步骤：将光源发出的光束经过照明系统调整后，照射于掩模；所述掩模选择性地透过一部分光线；这样透过的光线经过成像光学系统将所述掩模上的图案成像；利用空间像传感器获得投影物镜空间像；利用获得的空间像与通过设置Zernike系数仿真计算得出的特定条件下的空间像进行匹配，并根据匹配结果计算得到投影物镜波像差。 【当前权利人】上海微电子装备(集团)股份有限公司 【当前专利权人地址】上海市浦东新区张东路1525号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91310000736664790J 【引证次数】6.0 【被引证次数】2 【自引次数】2.0 【他引次数】4.0 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】11
