【摘要】 本发明公开了改性二氧化硅溶胶及其制备方法，以及含有该改性二氧化硅溶胶的抛光液。该改性二氧化硅溶胶的二氧化硅表面键合了含环氧基基团的硅烷偶联剂。将二氧化硅溶胶、表面活性剂、以及含有环氧基基团的硅烷偶联剂混合后，进行改性反应即可。本发明的改性二氧化硅溶胶中，二氧化硅粒子表面接枝了环氧基团，一方面改变了二氧化硅粒子的亲水性，另一方面改变了二氧化硅粒子与晶圆、抛光垫表面的相互作用。基于以上两种性能改进，采用本发明所述的改性二氧化硅配制的CMP抛光液可具有较高的TEOS和BD抛光速率，同时对Ta、Cu抛光影响不大。 【专利类型】发明申请 【申请人】安集微电子(上海)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】201200 中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】浦东新区 【申请号】CN200880023341.3 【申请日】2008-07-01 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101754929A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101754929B 【授权公告日】2012-09-19 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】C01B33/14; C09C1/28; C09C3/12; C09K3/14; C09G1/02 【发明人】陈国栋; 宋伟红; 姚颖; 宋成兵 【主权项内容】1. 一种改性二氧化硅溶胶， 其特征在于： 二氧化硅表面键合了含环氧基基 团的硅烷偶联剂。 【当前权利人】安集微电子(上海)有限公司 【当前专利权人地址】中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 【专利权人类型】有限责任公司(外商投资企业法人独资) 【统一社会信用代码】91310000766495270K 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】9.0 【家族被引证次数】50
