【摘要】 本发明提供一种用于化学气相沉积(CVD)的基板处理设备，包含用以承置玻璃基板的基座，并于基座上方设有可相对基座作垂直位移的遮蔽框架，基座和遮蔽框架分别设有同样为陶瓷材质的复位钮与复位块，能避免复位钮通过卡合固定于复位块来进行相互对位时造成复位块容易损伤的问题，且上述陶瓷复位块为可拆卸式，修缮时无须更换整个遮蔽框架，可有效延长遮蔽框架的使用寿命，并减少生产成本及提高产品良率。。 【专利类型】发明申请 【申请人】深超光电(深圳)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518000 广东省深圳市宝安区龙华镇民清路深超光电科技园A栋 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】宝安区 【申请号】CN200810220198.9 【申请日】2008-12-22 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101748385A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101748385B 【授权公告日】2012-05-09 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】C23C16/44 【发明人】陈志弦 【主权项内容】1.一种用于化学气相沉积(CVD)的基板处理设备，其特征在于：包含，一基座，具有一处理平台，用以承置一玻璃基板，该处理平台周围凸设至少一陶瓷复位钮(Reset Button)；一遮蔽框架，设有一对应该处理平台的凹槽，且底部对应该陶瓷复位钮设有至少一陶瓷复位块；以及多个陶瓷复位块，设置固定于该遮蔽框架上，并其设置为可拆卸装置，可自该遮蔽框架拆卸更替。 【当前权利人】深超光电(深圳)有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市宝安区龙华镇民清路深超光电科技园A栋 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】91440300767583838F 【被引证次数】5 【被他引次数】5.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】5
