【摘要】 本发明适用于计算机直接制版技术光刻领域，提供了一种光刻机曝光系统及其控制方法，光刻机曝光系统包括依次连接的光源、光路系统组件、光刻镜头以及基板；光路系统组件将光源发射的光信号进行调制处理后输出，光刻镜头将光路系统组件输出的光信号聚焦到基版上形成第一光斑；还包括：光学装置、控制器以及曝光镜头组合，控制器控制光学装置将光源发射的光信号射出，曝光镜头组合将光学装置射出的光信号聚焦到基版上形成第二光斑；第二光斑的直径大于第一光斑的直径。本发明提供的光刻机曝光系统采用光学装置改变光信号的传播方向，通过曝光镜头组合将光信号在基版上形成大光斑，不影响精细图形曝光的同时对大片空白区进行快速曝光，提高了光刻机的工作效率。 【专利类型】发明授权 【申请人】清溢精密光电(深圳)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518057 广东省深圳市高新技术工业区北区松坪山朗山二路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】南山区 【申请号】CN200810216174.6 【申请日】2008-09-19 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101364053B 【公开公告日】2010-09-29 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101364053B 【授权公告日】2010-09-29 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】张建国; 朱春辉 【主权项内容】一种光刻机曝光系统，包括依次连接的光源、光路系统组件、光刻镜头以及基板；所述光路系统组件将所述光源发射的光信号进行调制处理后输出，所述光刻镜头将所述光路系统组件输出的光信号聚焦到所述基版上形成第一光斑；其特征在于，所述光刻机曝光系统还包括：光学装置、控制器以及曝光镜头组合，所述控制器控制所述光学装置将所述光源发射的光信号射出，所述曝光镜头组合将所述光学装置射出的光信号聚焦到所述基版上形成第二光斑；所述第二光斑的直径大于所述第一光斑的直径。 【当前权利人】深圳清溢光电股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市南山区朗山二路北清溢光电大楼 【家族被引证次数】17
