【摘要】 本发明公开了合金表面微弧氧化制备防腐抗磨陶瓷涂层的方法。该方法包括配置电解液、设置电源电参数和微弧氧化处理三个步骤，其中电解液的组分浓度为硅酸钠20-100g/L；氢氧化钠5-10g/L；有机胺添加剂5-15ml/L；单位面积电流密度为50-100A/平方米；脉冲频率为100-700Hz；脉冲占空比为20-90％；微弧氧化处理中控制电解液温度不高于45℃。该方法在铝、镁合金表面制备陶瓷涂层所需单位功率密度低，成膜速度快：采用100KVA电源，可以一次性处理至少2平方米铝合金表面积，陶瓷涂层生长速度达到1-1.5微米/分钟。形成的陶瓷涂层均匀致密，铝合金硬度达到1200-1300Hv。 【专利类型】发明授权 【申请人】华南理工大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】510640 广东省广州市天河区五山路381号 【申请人地区】中国 【申请人城市】广州市 【申请人区县】天河区 【申请号】CN200810027554.5 【申请日】2008-04-21 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101270495B 【公开公告日】2010-10-27 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101270495B 【授权公告日】2010-10-27 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C25D11/02; C25D11/04; C25D11/30 【发明人】李文芳; 彭继华 【主权项内容】一种合金表面微弧氧化制备防腐抗磨陶瓷涂层的方法，其特征在于，包括如下步骤和工艺条件：(1)配置电解液：电解液各组分浓度为硅酸钠20-100g/L、氢氧化钠5-10g/L和有机胺添加剂5-15ml/L；所述有机胺添加剂选自乙二胺、三乙醇胺、六次甲基四胺中的一种或多种；(2)设置非对称交、直流脉冲电源电参数：根据防腐抗磨陶瓷涂层膜厚，按1-1.5微米/分钟的膜层生长速度设置微弧氧化处理时间；并以电流方式控制输出电源，电流输出为非对称直流脉冲或非对称交流脉冲；采用非对称直流脉冲输出时，限制电压设置为500V，最大电流设置按照处理构件的总表面积计算设置，其中单位面积电流密度为50-100A/平方米；脉冲频率为100-700Hz，脉冲占空比为20-90％；采用非对称交流脉冲输出时，最小电压设置为-500V，最大正负脉冲电流的比值设置为10∶1-2∶1，正负脉冲数目比值设置为10∶1-2∶1；所述的非对称交、直流微弧氧化电源正负脉冲峰值可调，脉冲波型为方波，正相脉冲过度到负相脉冲的死区不超过60us；(3)微弧氧化处理：将除油后的合金构件连接到电极棒上，并置入电解液中，启动非对称交、直流微弧氧化电源，控制电解液温度不高于45℃，微弧氧化处理到步骤(2)的设置时间；取下被处理构件，流水洗净工件表面后，热风烘干后获得陶瓷涂层合金构件。 【当前权利人】华南理工大学 【当前专利权人地址】广东省广州市天河区五山路381号 【统一社会信用代码】12100000455414429R 【引证次数】9.0 【被引证次数】2 【他引次数】9.0 【被自引次数】2.0 【家族引证次数】9.0 【家族被引证次数】46
