【摘要】 本发明涉及一种涂层，其可以用作为光学减反层，例如太阳选择性吸收涂层膜系的减反层。所述涂层是硅基合金的氮氧化物SiMNO薄膜材料，其中M优选为铝、锡、铟、钛、锆等合金化元素的一种或多种。本发明还涉及采用磁控溅射技术，以硅基合金靶在氩气、氮气和氧气存在中制备太阳选择性吸收涂层膜系中的减反层的方法。 【专利类型】发明申请 【申请人】山东力诺新材料有限公司; 殷志强 【申请人类型】个人,企业 【申请人地址】250103 山东省济南市经十东路8169号 【申请人地区】中国 【申请人城市】济南市 【申请号】CN200810175014.1 【申请日】2008-10-24 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101724812A 【公开公告日】2010-06-09 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】C23C14/06; C23C14/24; C23C14/35; F24J2/50 【发明人】殷志强; 高元坤 【主权项内容】涂层，其特征在于，所述涂层是硅基合金的氮氧化物SiMNO薄膜材料，其中M为一种或多种以硅基合金总重量计至多为20重量％的合金化元素，所述合金化元素为铝、锡、铟、钛、锆等金属的一种或多种，优选为SiAlNO、SiSnNO、SiTiNO金属-介质复合薄膜涂层材料。 【当前权利人】山东力诺新材料有限公司; 殷志强 【当前专利权人地址】山东省济南市经十东路8169号; 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股的法人独资) 【统一社会信用代码】91370126167696994U 【引证次数】7.0 【被引证次数】24 【他引次数】7.0 【被他引次数】24.0 【家族引证次数】7.0 【家族被引证次数】24
