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一种显示器减反射屏及其制备方法专利

发布时间:2026-06-25

【摘要】 本发明公开了一种显示器减反射屏及其制备方法。减反射屏基材双面均从靠基材(1)表面开始,设置有二氧化钛膜层(2)、二氧化硅膜层(3)、二氧化钛膜层(4)及二氧化硅膜层(5)组成的AR减反射复合膜系;制备方法包括:减反射屏基材(1)表面处理,电子枪分别蒸发二氧化钛、二氧化硅,在基材表面依次镀覆二氧化钛膜层(2)、二氧化硅膜层(3)、二氧化钛膜层(4)和二氧化硅膜层(5),并打开离子源通入氧气辅助,镀完一面自动反转到另外一面,重复上述镀膜过程,采用上述技术方案,克服了水解法制备AR减反射膜放气严重和有机物的污染等缺陷,制备的AR减反射膜透过率达到98%以上,反射率小于0.5%,提高了显示器的质量。 【专利类型】发明授权 【申请人】芜湖长信科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】241009 安徽省芜湖市经济技术开发区汽经二路以东 【申请人地区】中国 【申请人城市】芜湖市 【申请号】CN200810243840.5 【申请日】2008-12-16 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101493534B 【公开公告日】2010-09-15 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101493534B 【授权公告日】2010-09-15 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G02B1/11; B32B7/02; B32B33/00; G02B1/115 【发明人】陈奇; 沈励; 许沭华; 迟晓晖; 石富银 【主权项内容】一种显示器减反射屏的制备方法,其特征在于:反射屏基材(1)表面处理干净并干燥后对其表面进行活化处理,真空度为4×10-5~5×10-5torr蒸发二氧化钛,首先在减反射屏基材(1)表面沉积一层二氧化钛膜层(2),蒸发二氧化硅,在第一层二氧化钛膜层(2)上沉积第二层二氧化硅膜层(3),同样的条件再沉积第三层二氧化钛膜层(4)和第四层二氧化硅膜层(5);反射屏基材为PC/PMMA;所述的基材(1)表面活化处理,采用离子源通入氧气,氧气流量为10~30sccm;所述的各膜层沉积的同时打开离子源通入氧气辅助,氧气流量为8~20sccm;所述的减反射屏基材(1)表面是采用-100~-120℃深冷低温干燥的;且在深冷处理后的基材不做回火处理,而是在60~80℃的环境中直接进行真空镀膜。 【当前权利人】芜湖长信科技股份有限公司 【当前专利权人地址】安徽省芜湖市经济技术开发区汽经二路以东 【专利权人类型】其他股份有限公司(上市) 【统一社会信用代码】913400007199042708 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】16

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