【摘要】 一种两用式透光及发光装置及可透光的发光结构。该两用式透光及发光装置包括第一透明基板、间隙侧壁、第二透明基板以及可透光的发光结构。间隙侧壁在第一透明基板与第二透明基板之间以构成密闭空间。该可透光的发光结构包括阴极结构、阳极结构、低压气体层以及图案化荧光层，其中低压气体层容置于密闭空间中，阴极结构与阳极结构分别相向地配置于第一透明基板与第二透明基板上，而图案化荧光层位于阴极结构与阳极结构之间，以使外界的自然光仍能穿透其间。 【专利类型】发明申请 【申请人】财团法人工业技术研究院 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】中国台湾新竹县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810183310.6 【申请日】2008-12-02 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101752193A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101752193B 【授权公告日】2012-12-05 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H01J63/06; H01J61/30 【发明人】李中裕; 陈世溥; 林依萍; 周彦伊; 王博弘; 刘旻忠 【主权项内容】一种两用式透光及发光装置，包括：第一透明基板；间隙侧壁；第二透明基板，其中该间隙侧壁在该第一透明基板与该第二透明基板之间构成密闭空间；以及可透光的发光结构，包括阴极结构、阳极结构、低压气体层以及图案化荧光层，其中该低压气体层容置于该密闭空间中，该阴极结构与该阳极结构分别相向地配置于该第一透明基板与该第二透明基板上，而该图案化荧光层位于该阴极结构与该阳极结构之间，以使外界的自然光仍能穿透其间。 【当前权利人】财团法人工业技术研究院 【当前专利权人地址】中国台湾新竹县 【家族引证次数】2.0
