【摘要】 一种喷嘴清洁装置，包含具有至少一个倾斜面的喷嘴，喷嘴清洁装置包含：基座；擦拭件，位于基座上，擦拭件包含嵌置部及至少一个导斜面，导斜面位于嵌置部的周缘并对应于倾斜面设置；及至少一个磁力件，位于基座的侧边，用以产生磁力吸引喷嘴而使导斜面贴合倾斜面。本发明以磁力吸附方式使喷嘴与擦拭件完成自动对位校正，不仅可避免现有技术中以机械对位方式造成喷嘴或擦拭件磨损的问题，并可提高本发明的喷嘴清洁装置在位移时的稳定性。 【专利类型】发明授权 【申请人】友达光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810096239.8 【申请日】2008-05-06 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101271277B 【公开公告日】2010-12-22 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101271277B 【授权公告日】2010-12-22 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03F7/16; B08B13/00 【发明人】丁振原; 陈信昌; 彭志强; 吴冠贤; 林书汉 【主权项内容】一种喷嘴清洁装置，适用于包含具有至少一个倾斜面的一喷嘴的涂布机，该喷嘴清洁装置包含：一基座，该基座包含一容纳部；一擦拭件，置放于该基座的该容纳部内，该擦拭件包含一嵌置部及至少一个导斜面，该导斜面位于该嵌置部的周缘并对应于该倾斜面设置；及至少一个磁力件，位于该基座的侧边，用以产生磁力吸引该喷嘴而使该导斜面贴合该倾斜面。 微信 【当前权利人】友达光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹市 【引证次数】6.0 【自引次数】2.0 【他引次数】4.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】1
