【摘要】 本发明提供一种扫描曝光方法，包括：将一掩模及一基板往一方向相对移动，其中该掩模及该基板在单次照射的移动过程中，具有至少二种不同的等相对速度，以使该基板一被曝光的照射区域具有一期望尺寸。本发明的扫描曝光方法，能够减少当下一晶片的叠对测量数据往相同的方向的偏移量，也亦即能够有效改善当层与前层之间叠对偏移的程度，并降低晶片的不良率。。 【专利类型】发明申请 【申请人】南亚科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾桃园县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810185963.8 【申请日】2008-12-18 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101750901A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】施江林; 黄浚彦 【主权项内容】一种扫描曝光方法，包括：将一掩模及一基板往一方向相对移动，特征在于，其中该掩模及该基板在单次照射的移动过程中，具有至少二种不同的等相对速度，以使该基板一被曝光的照射区域具有一期望尺寸。 【当前权利人】南亚科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾桃园县 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2
