【摘要】 本发明一种壳体及应用其的喷射式等离子体系统，该壳体，用以可旋转地设置于一喷射式等离子体系统中。壳体绕着一中心轴转动。壳体包括一主体及一等离子体喷嘴。主体具有一第一腔体。等离子体喷嘴设置于主体的下方，且具有一第二腔体及一直形通道。第二腔体连通于第一腔体。直形通道位于相对于主体的等离子体喷嘴的一侧，且连通于第二腔体。直形通道具有一延伸轴，实质上平行于中心轴，且与中心轴相隔一间距。喷射式等离子体系统产生的一等离子体经由直形通道喷出。。 【专利类型】发明申请 【申请人】财团法人工业技术研究院 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】中国台湾新竹县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810186084.7 【申请日】2008-12-22 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101754563A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101754563B 【授权公告日】2012-10-10 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H05H1/34; H01J37/32; H05H1/26 【发明人】蔡陈德; 许文通; 吴清吉; 陈志玮 【主权项内容】一种壳体，用以可旋转地设置于一喷射式等离子体系统中，该壳体绕着一中心轴转动，其特征在于该壳体包括：主体，具有一第一腔体；以及一等离子体喷嘴，设置于该主体的下方，且具有一第二腔体及一直形通道，该第二腔体连通于该第一腔体，该直形通道位于相对于该主体的该等离子体喷嘴的一侧，且连通于该第二腔体，该直形通道具有一延伸轴，该延伸轴平行于该中心轴，且与该中心轴相隔一间距，该喷射式等离子体系统产生的等离子体经由该直形通道喷出。 【当前权利人】财团法人工业技术研究院 【当前专利权人地址】中国台湾新竹县 【被引证次数】3 【被他引次数】3.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】4
