【摘要】 本发明是有关一种将富含硅杂质的氢氧化钾水溶液纯化的方法，尤指一 种利用低碳醇(例如乙醇)萃取该氢氧化钾水溶液的方法，包括以低碳醇和 富含硅杂质的氢氧化钾水溶液混合，使其分成水相层及含硅杂质降低的氢氧 化钾水溶液的低碳醇相层，该低碳醇相层经分离后将低碳醇移除即可得到硅 杂质降低的氢氧化钾水溶液。 【专利类型】发明申请 【申请人】友发化工股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台北市忠孝东路一段85号16楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810147324.2 【申请日】2008-08-07 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101643222A 【公开公告日】2010-02-10 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101643222B 【授权公告日】2012-03-21 【授权公告年份】2012.0 【发明人】许允雄; 许世杰 【主权项内容】1.一种将富含硅杂质的氢氧化钾水溶液纯化的方法，其包含： 以低碳醇和富含硅杂质的氢氧化钾水溶液混合，以萃取该氢氧化钾水溶 液，而获得一下层水相层及一上层含硅杂质降低的氢氧化钾水溶液的低碳醇 相层； 取该上层低碳醇相层；及 移除该上层低碳醇相层中的低碳醇，获取纯化的氢氧化钾水溶液。 【当前权利人】友发化工股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台北市忠孝东路一段85号16楼 【被引证次数】TRUE 【家族被引证次数】TRUE
