【摘要】 本发明公开了一种步进排列式干涉微影方法，其主要是在干涉微影前先对 干涉光束相较于移动承载偏移误差进行量测，以减低后来利用步进式曝光拼接 纳米微结构图案时相邻的图案间的位移偏差。此外，本发明更提供一步进排列 式干涉微影系统，于步进控制移动的过程中补偿干涉光束曝光时所造成的误 差，达成在二维平面上大面积的步进式的精密对位，并且通过多次曝光将微结 构精确接合，以产生出大面积的周期性结构。 【专利类型】发明申请 【申请人】财团法人工业技术研究院 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】台湾省新竹县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810130790.X 【申请日】2008-07-21 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101634810A 【公开公告日】2010-01-27 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101634810B 【授权公告日】2011-06-01 【授权公告年份】2011.0 【发明人】颜家钰; 张所鋐; 陈正宏; 陈联圣 【主权项内容】1.一种步进排列式干涉微影方法，其特征在于，包括有下列步骤： (a)提供一承载装置，其可于一第一轴向以及一第二轴向上进行位移运动以 及一旋转运动； (b)提供一干涉光束并检测该干涉光束相较于该位移运动的一偏移误差； (c)使该干涉光束照射至该承载装置上的一工件表面，以于该工件表面形成 一特定干涉图案区块； (d)以步进方式根据该偏移误差进行一位置调整运动，以调整下一次曝光 位置；以及 (e)重复该步骤(c)至(d)多次，在该工件表面上拼接形成有一大面积干涉图 案。 【当前权利人】财团法人工业技术研究院 【当前专利权人地址】中国台湾新竹县 【被引证次数】5 【家族被引证次数】5
