【摘要】 一种光电装置的制造方法包含以下步骤：形成一光电元件于一基 板；形成一反射欧姆接触膜于光电元件上，其中反射欧姆接触膜具有 一图案介电层及一第一导电层，图案介电层与第一导电层沉积于光电 元件的上方；以及形成一第二导电层于反射欧姆接触膜上。本发明也 揭示上述光电装置的制造方法所形成的光电装置。 【专利类型】发明申请 【申请人】泰谷光电科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省南投县南投市自强三路18号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810130312.9 【申请日】2008-07-04 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101621098A 【公开公告日】2010-01-06 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101621098B 【授权公告日】2012-09-26 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H01L33/00 【发明人】富振华; 吕根泉; 王冠儒 【主权项内容】1.一种光电装置的制造方法，包含以下步骤： 形成一光电元件于一基板； 形成一反射欧姆接触膜于该光电元件上，其中该反射欧姆接触膜具 有一图案介电层及一第一导电层，该图案介电层与该第一导电层沉积 于该光电元件的上方；以及 形成一第二导电层于该反射欧姆接触膜上。 【当前权利人】泰谷光电科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾南投县南投市自强三路18号 【被引证次数】5 【被他引次数】5.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】5
