【摘要】 一种一次扣拱暗挖逆作施工方法，其步骤如下：在地下结构设计空间对应的顶部土体及底部土体中，分别开挖至少一对上导洞和下导洞，每对导洞为一跨，然后进行洞壁的初期支护；在下导洞底部敷设防水层，在防水层上浇注下层框架结构底板；从上导洞施作边桩及中间立柱；在上导洞拱顶敷设防水层，浇注拱顶永久结构；然后采用暗挖法开挖两个上导洞之间中间跨土体，形成中跨上导洞，并施作中跨上导洞拱顶永久结构；凿除上导洞底部初期支护，向下开挖土体，浇注结构侧墙和中楼板；开挖下导洞顶部初期支护和中楼板之间的剩余部分土体，同时凿除下导洞顶部初期支护，并浇注剩余侧墙结构、封闭偶数跨结构底板。该工法施工风险小，施工场地大，施工速度快，采用较少数目的大导洞，解决了传统暗挖法导洞数量多、导洞较小、施工空间小、结构受力多次转换、围岩重复扰动等技术问题。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京城建设计研究总院有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100037 北京市西城区阜成门北大街5号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】西城区 【申请号】CN200810304036.3 【申请日】2008-08-19 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101338678B 【公开公告日】2010-12-29 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101338678B 【授权公告日】2010-12-29 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】E21D9/01; E21D11/10; E21D11/38 【发明人】黄美群; 李松梅; 王臣; 王智丰; 罗佳音; 李程; 李振伟 【主权项内容】一种一次扣拱暗挖逆作施工方法，采用暗挖法利用地下结构外的施工竖井和横向通道运送开挖的土体，在地下形成单跨多层框架结构体系，其特征在于步骤如下： 步骤1，在地下结构设计空间对应的顶部土体及底部土体中，先采用暗挖法施作下导洞(2)，再施作上导洞(1)，每对导洞为一跨，然后进行洞壁的初期支护； 步骤2，敷设下导洞底部防水层(5)，在防水层上浇注下层框架结构底板(4)，在下层框架结构底板(4)上浇桩底拉梁(3)，桩底拉梁(3)与下层框架结构底板(4)完全分开； 步骤3，沿地下结构侧墙外侧长向，从上导洞(1)底部至下导洞(2)底部垂直向下跳孔开挖桩孔，在各桩孔内灌注混凝土边桩(6)； 步骤4，敷设上导洞拱顶防水层，然后一次浇注拱顶永久结构(8)，拱顶永久结构(8)与洞壁初期支护之间回填素砼(14)； 步骤5，在拱顶永久结构(8)、边桩(6)及下层框架结构底板(4)形成的周边构件的保护下，凿除两侧边桩内边线之间上导洞底部的初期支护(11)，向下开挖各跨中土体至设计的上层框架底面处，在拱顶永久结构(8)与上层框架底面之间逆向浇筑上层框架结构侧墙(12)和中楼板(9)； 步骤6，开挖下导洞顶部初期支护(13)与中楼板(9)之间的剩余部分土体(10)，凿除下导洞顶部初期支护(13)，浇筑下层框架结构侧墙(15)，最终形成单跨多层地下框架结构体系。。： 【当前权利人】北京城建设计发展集团股份有限公司 【当前专利权人地址】北京市西城区阜成门北大街五号 【专利权人类型】其他股份有限公司(上市) 【统一社会信用代码】91110000101360785M 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】25
