【摘要】 一种发声装置，其包括一基底；至少一第一电极及至少一第二电极，该至少一第一电极和至少一第二电极间隔设置于该基底上；以及一发声元件，该发声元件包括一碳纳米管结构，该碳纳米管结构与该第一电极和第二电极电连接；其中，所述至少一第一电极和至少一第二电极间隔设置于该发声元件与该基底之间，使该发声元件与该基底之间形成有一间隙。 【专利类型】发明申请 【申请人】清华大学; 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 【申请人类型】企业,学校 【申请人地址】100084 北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810241985.1 【申请日】2008-12-30 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101771922A 【公开公告日】2010-07-07 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101771922B 【授权公告日】2013-04-24 【授权公告年份】2013.0 【IPC分类号】H04R23/00 【发明人】姜开利; 肖林; 陈卓; 冯辰; 刘亮; 柳鹏; 潜力; 李群庆; 范守善 【主权项内容】一种发声装置，其包括：一基底；一第一电极及一第二电极，该第一电极和第二电极间隔设置于该基底；以及一发声元件，该发声元件包括一碳纳米管结构，该碳纳米管结构与该第一电极和该第二电极电连接；其特征在于，所述第一电极和第二电极间隔设置于所述碳纳米管结构与所述基底之间，使该碳纳米管结构与该基底之间形成有一间隙。 【当前权利人】清华大学; 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 【当前专利权人地址】北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室; 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 【专利权人类型】公立; 有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】12100000400000624D; 914403007084307436 【被引证次数】2 【被自引次数】1.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】163.0 【家族被引证次数】13
