【摘要】 本发明提供一种电极组件，包括阻抗匹配环、边缘环、聚焦环和绝缘环。其中，阻抗匹配环具有与静电夹持装置相近或相同的结构和材料，从而能够对工件边缘和中心的电场和温度进行有效匹配并使之均匀分布。边缘环、聚焦环、电极保护环和绝缘环相互配合，可调整工件中心位置处和边缘位置处的电场和温度分布，并有效保护静电夹持装置免受等离子体轰击，延长设备使用寿命。另外，本发明还提供一种采用上述电极组件的等离子体处理设备。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810227983.7 【申请日】2008-12-03 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101754565A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101754565B 【授权公告日】2012-07-25 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H05H1/46; H01L21/00; H01J37/32 【发明人】姚立强 【主权项内容】一种电极组件，其环绕静电夹持装置而设置，所述静电夹持装置具有基体和设置于基体表面的表层，其特征在于，所述电极组件包括：阻抗匹配环，其环绕静电夹持装置而设置并具有基体和设置于基体表面的表层，所述阻抗匹配环表层的材料以及阻抗匹配环基体的材料分别与静电夹持装置表层的材料以及静电夹持装置基体的材料相对应，用以匹配置于静电夹持装置上的工件的电场和温度分布；边缘环，其环绕静电夹持装置而设置并叠置于所述阻抗匹配环之上，用以调整所述工件边缘位置处的电场和温度分布，并保护阻抗匹配环免受上方的等离子体轰击；聚焦环，其设置于阻抗匹配环和边缘环的外侧，用以调整所述工件边缘位置处的电场分布；绝缘环，其位于所述聚焦环的下方并环绕所述静电夹持装置而设置，用以使静电夹持装置与周围环境电隔离。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】15 【被自引次数】2.0 【被他引次数】13.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】15
