【摘要】 本发明公开了一种加热装置及半导体加工设备，包括并排布置的多根加热管，每根加热管的上方设有单独的反射罩，反射罩可以为抛物线形、弧线形、三角形或梯形等，加热管可以位于抛物线的焦点处，可以对每根加热管的热量单独进行反射和调整，既能充分利用加热管的辐射能量，又能保证被加热物体受热均匀。可以用于等离子体增强化学气相沉积PECVD的红外预热系统中或其它需要红外加热的系统中，可应用于太阳能电池生产、半导体芯片制造、TFT面板制造等领域。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810240183.9 【申请日】2008-12-18 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101748390A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】C23C16/46; H01L21/00 【发明人】蒲春 【主权项内容】一种加热装置，包括并排布置的多根加热管，其特征在于，所述的多根加热管中，每根加热管的上方设有单独的反射罩。 ： 【当前权利人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】18 【被自引次数】4.0 【被他引次数】14.0 【家族被引证次数】18
