【摘要】 适于光化学反应的聚合物基微流体反应器及制备方法属于聚合物基微流体反应器制造技术领域。该反应器制备方法：在PMMA基体的进出口位置加工出与外部设备连接的顶部未打通的螺纹孔；PMMA表面旋涂EA51胶层进行表面改性；在EA51胶层表面旋涂SU8胶层，并进行前烘、曝光及后烘三步工艺；对SU8胶层未曝光部分进行显影形成微流道图案；打通进出口；在羟基化处理过的BOPP膜表面旋涂一层EA51胶层形成封盖胶层；对微流道图案进行封盖，在紧密压实的状态下对顶部封盖层曝光使胶层完全固化，便形成了封闭的微流通道。将内部套紧导管的PEEK螺钉拧入螺纹孔。本发明解决了目前微流体反应器制造中常见问题，实现了光照合成纳米颗粒，聚合物微球等微粒的全有机透明微流体反应器。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京化工大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】100029 北京市朝阳区北三环东路15号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810113777.3 【申请日】2008-05-30 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101318119B 【公开公告日】2010-12-01 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101318119B 【授权公告日】2010-12-01 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】B01J19/08; B01J19/00 【发明人】杨万泰; 刘佳; 马育红; 刘莲英 【主权项内容】一种适于光化学反应的聚合物基微流体反应器，其特征在于，从下至上依次包括：在进出口位置开有螺纹孔的PMMA的基体，该螺纹孔中拧入内部套紧导管的PEEK螺钉，该导管出口固定在进出口的底部；PMMA基体表面旋涂的EA51胶层；在EA51胶层表面旋涂的SU8胶层，该SU8胶层未曝光部分进行显影形成微流道图案；在羟基化处理过的BOPP膜表面旋涂一层EA51胶层形成的封盖胶层，该封盖胶层对敞开的SU8胶层微流道图案进行封盖。 【当前权利人】北京化工大学 【当前专利权人地址】北京市朝阳区北三环东路15号 【统一社会信用代码】1210000040000182XD 【引证次数】8.0 【他引次数】8.0 【家族引证次数】8.0 【家族被引证次数】5
