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超分辨光子筛的制造方法专利

发布时间:2026-06-11

【摘要】 本发明公开了一种超分辨光子筛的制造方法,在透普通的光子筛上集成刻蚀等孔径的超分辨位相环,从而形成由普通光子筛和等孔径超分辨位相片合成的有多个同心环带的位相衍射单元的位相板。本发明将超分辨技术的圆孔衍射数学处理工具和普通光子筛结合起来,实现了光子筛聚焦衍射的主斑再压缩的光强分布,即实现了激光束远场衍射斑的主斑大小的再压缩。。微信 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院微电子研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】100029 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810227457.0 【申请日】2008-11-25 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101430427B 【公开公告日】2010-11-10 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101430427B 【授权公告日】2010-11-10 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G02B27/42; G02B27/48 【发明人】贾佳; 谢长青; 刘明 【主权项内容】一种超分辨光子筛的制造方法,其特征在于,在普通的光子筛片上集成刻蚀等孔径的超分辨位相片,从而形成由普通光子筛和等孔径超分辨位相片合成的有多个同心环带的位相衍射单元的位相板;所述超分辨位相片的大小与对应的光子筛最外环孔径相同,环带的位相分布在同一圆环内的位相值是相同的。 【当前权利人】中芯国际集成电路制造(上海)有限公司; 中国科学院微电子研究所 【当前专利权人地址】上海市浦东新区张江路18号; 北京市朝阳区北土城西路3号 【统一社会信用代码】12100000400834434U 【家族被引证次数】4

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