【摘要】 本发明公开了一种掩膜板清洁系统，用于在掩膜板进行曝光之前，对掩 膜板进行清洁，其包括：清洁室，其两侧具有掩膜板出入的开口；开关装置， 用于检测所述掩膜板的经过，产生控制信号；清洁装置，位于所述清洁室内， 与所述开关装置电连接，根据所述控制信号开启或关闭，用于对经过所述清 洁室的掩膜板进行清洁。本发明还公开了一种掩膜板的清洁方法。本发明能 够使掩膜板从掩膜板库传递到掩膜板平台的过程中进行在线实时的清洁，保 障了基板的质量，进一步提高了产品的良品率和生产效率，节约了成本。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京京东方光电科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100176北京市经济技术开发区西环中路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】大兴区 【申请号】CN200810116880.3 【申请日】2008-07-18 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101628289A 【公开公告日】2010-01-20 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101628289B 【授权公告日】2012-07-25 【授权公告年份】2012.0 【发明人】黎午升; 鲁成祝; 金基用; 李斗熙 【主权项内容】1、一种掩膜板清洁系统，用于在掩膜板进行曝光之前，对掩膜板进行清 洁，其特征在于包括： 清洁室，其两侧具有掩膜板出入的开口； 开关装置，用于检测所述掩膜板的经过，产生控制信号； 清洁装置，位于所述清洁室内，与所述开关装置电连接，根据所述控制 信号开启或关闭，用于对经过所述清洁室的掩膜板进行清洁。 【当前权利人】高创(苏州)电子有限公司; 京东方科技集团股份有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市吴江经济技术开发区大兢路1088号; 北京市朝阳区酒仙桥路10号 【专利权人类型】有限责任公司(台港澳与境内合资) 【统一社会信用代码】911103027493533932 【被引证次数】6 【被自引次数】2.0 【家族被引证次数】6
