【摘要】 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有一种或多种含颜料亲和基团的星型聚合物、研磨颗粒和水。本发明的抛光液可以显著降低多晶硅的去除速率，降低多晶硅与二氧化硅的选择比，显著提高多晶硅的平坦化效率。 【专利类型】发明申请 【申请人】安集微电子(上海)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】浦东新区 【申请号】CN200810207470.X 【申请日】2008-12-19 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101747842A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101747842B 【授权公告日】2014-12-31 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C09G1/02; H01L21/00; H01L21/3105; H01L21/304; H01L21/321; H01L21/768; C09G1/00; H01L21/02; H01L21/70 【发明人】荆建芬; 蔡鑫元; 杨春晓 【主权项内容】一种化学机械抛光液，其含有一种或多种含颜料亲和基团的星型聚合物、研磨颗粒和水。。 【当前权利人】安集微电子科技(上海)股份有限公司 【当前专利权人地址】上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层 【专利权人类型】有限责任公司(外商投资企业法人独资) 【统一社会信用代码】91310000766495270K 【引证次数】7.0 【被引证次数】1 【他引次数】7.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】17.0 【家族被引证次数】1
