【摘要】 本发明提供了一种基于光纤阵列的可编程式光阑，涉及半导体制造用 光刻装置及其使用方法，具体涉及一种半导体制造中光刻用光阑及其使用 方法。包括光阑体，所述光阑体上有光纤阵列，光纤阵列由两个以上光纤 单元排列组成，每个单独的光纤单元独立传播光线；由可编程的控制电路 连接每一个光纤单元，控制电路控制每一个光纤单元的导通或阻断。本发 明可以取代现有的基于物理或光学调节的光刻机光阑系统，实现先进光刻 工艺所需要的各种需求不同的照明方式，提高了光刻工艺的能力，同时降 低光刻机照明系统的成本。 【专利类型】发明申请 【申请人】上海华虹NEC电子有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】201206上海市浦东新区川桥路1188号 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】浦东新区 【申请号】CN200810043746.5 【申请日】2008-08-28 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101661122A 【公开公告日】2010-03-03 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G02B5/00; G02B6/06; G03F7/20 【发明人】王雷 【主权项内容】1.一种基于光纤阵列的可编程式光阑，包括光阑体，其特征在于， 所述光阑体上有光纤阵列，光纤阵列由两个以上光纤单元排列组成， 每个单独的光纤单元独立传播光线； 由可编程的控制电路连接每一个光纤单元，控制电路控制每一个光纤 单元的导通或阻断。 【当前权利人】上海华虹宏力半导体制造有限公司 【当前专利权人地址】上海市浦东新区自由贸易试验区祖冲之路1399号 【专利权人类型】有限责任公司(台港澳法人独资) 【统一社会信用代码】91310000607374607X 【被引证次数】7 【被他引次数】7.0 【家族被引证次数】7
