【摘要】 本发明提供了一种可补偿Z向位置的六自由度精密定位台，结构上主要分成XY台和曝光台，XY台是一个水平向精密定位台，目的是通过一套水平向驱动器加精密、有效的传动机构加闭环控制实现水平向(X、Y向)的精确定位；曝光台从上到下主要分为旋转台、调平调焦机构、硅片厚度补偿机构三层，硅片交接机构位于旋转台和硅片厚度补偿机构的中间。本发明的可补偿Z向位置的六自由度精密定位平台，水平方向上可用于大行程、高速、高精度场合，垂向上可实现三个自由度的亚微米精度的调节。。 【专利类型】发明授权 【申请人】上海微电子装备有限公司; 上海微高精密机械工程有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】201203 上海市张江高科技园区张东路1525号 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】浦东新区 【申请号】CN200810034478.0 【申请日】2008-03-11 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101241314B 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101241314B 【授权公告日】2010-06-23 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03F7/20; B25H1/00 【发明人】李志龙; 李生强; 董同社 【主权项内容】一种可补偿Z向位置的六自由度精密定位台，包括水平向定位台和曝光台，所述曝光台位于水平向定位台的上层，其特征在于：所述水平向定位台包括基础平台及两个X向直线电机和两个Y向直线电机，该两个X向直线电机的定子分别固定在基础平台的两侧，该两个X向直线电机的动子之间依次通过X向连接板、X向L形导轨、Y向导轨、X向平导轨及两个X向连接块固连在一起，该两个Y向直线电机沿X向分布，该两个Y向直线电机的定子分别固设于固连在所述X向L形导轨与所述X向平导轨之间的两个横梁，该两个Y向直线电机的动子分别和两个气足侧板固连，所述气足侧板固定在气浮于基础平台上的气足底板上；所述曝光台包括旋转台、调平调焦机构和硅片厚度补偿机构，所述旋转台除承载硅片外还要完成Rz向调节，其通过三个柔性件与调平调焦机构的上平板相连，所述调平调焦机构与硅片厚度补偿机构相连，所述硅片厚度补偿机构下设有气足，所述Y向导轨穿过气足。。： 【当前权利人】上海微电子装备(集团)股份有限公司; 上海微高精密机械工程有限公司 【当前专利权人地址】上海市浦东新区张东路1525号; 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张东路1525号3幢G104室 【专利权人类型】有限责任公司; 其他有限责任公司 【统一社会信用代码】91310000736664790J; 913101157505826011 【引证次数】6.0 【被引证次数】2 【他引次数】6.0 【被自引次数】2.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】45
