【摘要】 本发明涉及一种宽频带抗反射膜，其依次包括第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层及第七膜层。第一膜层、第三膜层、第五膜层及第七膜层为折射率约为2.3-2.5的低折射率材料层，第二膜层、第四膜层及第六膜层为折射率约为1.38-1.46的高折射率材料层。该第一膜层的膜厚约为0.122d-3.052d，第二膜层的膜厚约为0.267d-0.370d，第三膜层的膜厚约为0.427d-0.610d，第四膜层的膜厚约为0.760d-0.924d，第五膜层的膜厚约为0.305d-0.378d，第六膜层的膜厚约为0.575d-0.718d，第七膜层的膜厚约为1.160d-1.342d，其中，d＝λ/(4n)，λ为约450-600nm的入射光波长，n表示对应膜层的折射率。本发明还提供一种具有该宽频带抗反射膜的光学元件。。 【专利类型】发明申请 【申请人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】宝安区 【申请号】CN200810306256.X 【申请日】2008-12-15 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101750641A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G02B1/11 【发明人】陈冠廷; 黄俊翔; 叶信宗; 张炜修; 林光伟; 林玫君 【主权项内容】一种用于光学元件的宽频带抗反射膜，其由所述光学元件表面向远离该光学元件表面的方向依次包括第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层及第七膜层；所述第一膜层、第三膜层、第五膜层及第七膜层为折射率约为2.3-2.5的低折射率材料层，所述第二膜层、第四膜层及第六膜层为折射率约为1.38-1.46的高折射率材料层；所述第一膜层的膜厚约为0.122d-3.052d，第二膜层的膜厚约为0.267d-0.370d，第三膜层的膜厚约为0.427d-0.610d，第四膜层的膜厚约为0.760d-0.924d，第五膜层的膜厚约为0.305d-0.378d，第六膜层的膜厚约为0.575d-0.718d，第七膜层的膜厚约为1.160d-1.342d，其中，d＝λ/(4n)，λ为约450-600nm的入射光波长，n表示对应膜层的折射率。 【当前权利人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号; 中国台湾新北市土城区中山路66号 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】914403007084307436 【被引证次数】16 【被自引次数】2.0 【被他引次数】14.0 【家族引证次数】8.0 【家族被引证次数】25
