【摘要】 本发明提供一种相机曝光装置，其包括一第一透光电极、一第二透光电极，及一夹设于 该第一透光电极与第二透光电极之间的不透光的高分子驻极体膜层，该第一透光电极与第二 透光电极之间至少有部分空间未被该高分子驻极体膜层填满，允许光线通过，当在第一透光 电极及第二透光电极之间施加一电压时，该高分子驻极体膜层沿着平行于该第一透光电极或 第二透光电极的方向伸展或缩小，从而调节通过该空间的光量。该曝光装置通过高分子驻极 体膜的特性，即在外加电压下，其会产生形变来控制相机的曝光，可实现光圈或快门的功能 。该相机曝光装置结构简单，无需复杂的机械控制机构，易于小型化、工作可靠性较高且无 噪声，便于减小整个相机模组的体积。 【专利类型】发明申请 【申请人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】宝安区 【申请号】CN200810302879.X 【申请日】2008-07-22 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101634793A 【公开公告日】2010-01-27 【公开公告年份】2010 【发明人】林宗瑜 【主权项内容】1.一种相机曝光装置，其包括一第一透光电极、一第二透光电极， 及一夹设于该第一透光电极与第二透光电极之间的不透光的高分子驻极体膜层，该第一透光 电极与第二透光电极之间至少有部分空间未被该高分子驻极体膜层填满，允许光线通过，当 在第一透光电极及第二透光电极之间施加一电压时，该高分子驻极体膜层沿着平行于该第一 透光电极或第二透光电极的方向伸展或缩小，从而调节通过该空间的光量。 【当前权利人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号; 中国台湾新北市土城区中山路66号 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】914403007084307436 【被引证次数】4 【家族被引证次数】8
