【摘要】 本发明涉及一种具均匀光场的光源模组。该光源模组包括一个反射罩，一个发光元件及一个半反射半透射光学片。该反射罩具有一个几何中心轴及环绕该几何中心轴的一个反射面。该发光元件设置在该几何中心轴上。该光学片具有一个入光面，该入光面与该发光元件及该反射罩相对。该光学片用于将该发光元件发出且入射到该入光面上的部分光线透射至位于该光学片远离该发光元件一侧的一个第一光学区域，并将入射到该入光面上其余部分的光线反射至该反射面上，以经由该反射面将该其余部分的光线反射至环绕该第一光学区域的一个第二光学区域。该第一、第二光学区域的光线相光学耦合并从整体上形成一均匀光场。 【专利类型】发明申请 【申请人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】宝安区 【申请号】CN200810305180.9 【申请日】2008-10-24 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101725901A 【公开公告日】2010-06-09 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101725901B 【授权公告日】2012-07-18 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】F21V7/04; F21V5/08; F21V13/04; F21Y101/02 【发明人】林大为 【主权项内容】一种光源模组，其包括：一个反射罩，其具有一个几何中心轴及环绕该几何中心轴的一个反射面；一个发光元件，其设置在该几何中心轴上；一个半反射半透射光学片，其具有一个入光面，该入光面与该发光元件及该反射罩相对，该光学片用于将该发光元件发出且入射到该入光面上的部分光线透射至位于该光学片远离该发光元件一侧的一个第一光学区域，并将入射到该入光面上其余部分的光线反射至该反射面上，以经由该反射面将该其余部分的光线反射至环绕该第一光学区域的一个第二光学区域，该第一、第二光学区域的光线相光学耦合并从整体上形成一均匀光场。 【当前权利人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号; 中国台湾新北市土城区中山路66号 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】914403007084307436 【引证次数】1.0 【被引证次数】1 【他引次数】1.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】15.0 【家族被引证次数】5
