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一种面阵曝光装置及其曝光方法专利

发布时间:2026-07-03

【摘要】 本发明公开了一种面阵曝光装置及其曝光方法,方法包括如下步骤:移动步骤:面阵曝光装置的曝光头在第N曝光位置处对待曝光图像的第N图像块进行曝光后移动到相邻的第N+1预设曝光位置附近,其中N为正整数;检测调整步骤:检测曝光头所停止的位置,判断是否可以实现相邻图像块的完整像素拼接,如果可以则进入曝光步骤,如果不可以则对曝光头的位置进行微调,以实现相邻图像块的完整像素拼接再进入曝光步骤;曝光步骤:在第N+1实际曝光位置处对第N+1图像块进行曝光,第N+1图像块的起点衔接第N图像块的终点;重复上述步骤,直至将待曝光图像曝光完毕。本发明对曝光头的位置调整范围控制在像素的宽度内,大幅度减少定位时间,提高曝光效率。 【专利类型】发明授权 【申请人】深圳市大族激光科技股份有限公司; 深圳市大族数码影像技术有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518057 广东省深圳市南山区高新科技园松坪山工厂区5号路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】南山区 【申请号】CN200810217475.0 【申请日】2008-11-17 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101419390B 【公开公告日】2010-08-25 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101419390B 【授权公告日】2010-08-25 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03B27/32; G03B27/52; G03B27/72 【发明人】高云峰; 孙海翔 【主权项内容】一种面阵曝光装置的曝光方法,其特征在于,包括如下步骤:移动步骤:面阵曝光装置的曝光头在第N曝光位置处对待曝光图像的第N图像块进行曝光后移动到相邻的第N+1预设曝光位置附近,其中N为正整数;检测调整步骤:检测曝光头所停止的位置,判断曝光头所停止的位置是否为像素的整数倍,当是则进入曝光步骤,当不是则对曝光头的位置进行微调,以使曝光头停止在离检测处一个像素距离范围内的像素的整数倍位置再进入曝光步骤;所述曝光头停止在像素的整数倍位置处即为实际曝光位置处;曝光步骤:在第N+1实际曝光位置处对第N+1图像块进行曝光,所述第N+1图像块的起点衔接第N图像块的终点;重复上述步骤,直至将待曝光图像曝光完毕。 【当前权利人】深圳市大族激光科技股份有限公司; 辽宁大族冠华印刷科技股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市南山区高新技术园北区新西路9号; 辽宁省营口市新联大街136号 【专利权人类型】股份有限公司(上市); 有限责任公司(法人独资) 【统一社会信用代码】91440300708485648T; 91440300MA5JKA43XX 【家族被引证次数】1

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  • 【专利类型】外观设计【申请人】康佳集团股份有限公司【申请人类型】企业【申请人地址】518053广东省深圳市南山区华侨城【申请人地区】中国【申请人城市】深圳市【申请人区县】南山区【申请号】CN200830252928.4【申请日】2008-1
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  • 【摘要】本发明公开了一种异构数据库的操作代理装置,包括控制模块、数据库连接模块及外部通讯模块,其中,控制模块用于向外部通讯模块发送控制消息实现与外部应用系统的连接,以及向数据库连接模块发送控制消息实现与外部异构数据库的连接;数据库连接模块用