【摘要】 本发明公开了一种晶圆级图像模块(wafer lens)的制造方法及其结构， 该方法包括：步骤一：提供一种耐高温塑料材料，该耐高温塑料材料 的操作条件为在回焊温度在250℃以上；以及步骤二：提供一成型步骤， 将该耐高温塑料材料成型为一个晶圆级图像模块，其中该晶圆级图像模块包 括：一本体部；以及两个分别成型于该本体部的两相对侧面的光学结构。本发 明可形成一种一体成型的晶圆级图像模块，以达成制程简化的目的，更可有效 地提升光学成像的质量。。数据由整理 【专利类型】发明申请 【申请人】旭丽电子(广州)有限公司; 光宝科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】广东省广州市高新技术产业开发区科学城光谱西路25号 【申请人地区】中国 【申请人城市】广州市 【申请人区县】天河区 【申请号】CN200810211431.7 【申请日】2008-09-22 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101685767A 【公开公告日】2010-03-31 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101685767B 【授权公告日】2012-01-25 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H01L21/00; H01L27/146 【发明人】蔡佳锡; 曾正德; 陈子淦; 郭孟鑫 【主权项内容】1、一种晶圆级图像模块的制造方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤一：提供一种耐高温塑料材料，该耐高温塑料材料的操作条件为在回 焊温度在250℃以上；以及 步骤二：提供一成型步骤，将该耐高温塑料材料成型为一个晶圆级图像模 块，其中该晶圆级图像模块包括：一本体部；以及两个分别成型于该本体部的 两相对侧面的光学结构。 【当前权利人】光宝电子(广州)有限公司; 光宝科技股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城光谱西路25号; 中国台湾台北市内湖区瑞光路392号22楼 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】4
