【摘要】 本发明涉及一种用于薄膜制备的射频电极，该射频电极具有平板结构(11)，且在平板结构(11)的底面设有多个导电凸起(13)。本发明还涉及一种包括上述射频电极的薄膜制备装置，其中射频电极的多个导电凸起(13)伸入布气板(3)上分布的布气孔(4)的中央，在导电凸起(13)和布气孔(4)之间存在间隙。本发明在平板结构上设置了插入布气孔中的导电凸起，使得薄膜制备过程中通过布气孔中的气体能够在导电凸起周围产生强烈放电，从而减少了电离出的离子对薄膜的轰击损伤，提高了沉积膜层的质量。 【专利类型】发明授权 【申请人】东莞宏威数码机械有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】523080 广东省东莞市南城区石鼓村大龙路6号 【申请人地区】中国 【申请人城市】东莞市 【申请人区县】东莞市 【申请号】CN200810127058.7 【申请日】2008-06-19 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101307437B 【公开公告日】2010-12-01 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101307437B 【授权公告日】2010-12-01 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C23C16/505 【发明人】范振华 【主权项内容】一种包括用于薄膜制备的射频电极的薄膜制备装置，其中所述射频电极的多个导电凸起(13)伸入布气板(3)上分布的布气孔(4)的中央，在导电凸起(13)和布气孔(4)之间存在间隙；所述射频电极具有平板结构(11)，且在平板结构(11)的底面设有多个导电凸起(13)，所述多个导电凸起(13)能够在薄膜制备过程中伸入布气板(3)上分布的布气孔(4)中，以使通过布气孔(4)的气体在多个导电凸起(13)和布气孔(4)之间放电。。微信 【当前权利人】东莞宏威数码机械有限公司 【当前专利权人地址】广东省东莞市南城区石鼓村大龙路6号 【专利权人类型】有限责任公司(中外合资) 【统一社会信用代码】91441900721185172B 【引证次数】1.0 【他引次数】1.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】5
