【摘要】 本发明提出一种溅镀方法及溅镀设备。包括：取来待溅镀的盘片并 将其抽真空至预真空后，将所述盘片旋转传输到第一溅镀腔。通过第一 溅镀腔在磁场的作用下进行溅镀，在达到预定设置的膜厚A时停止溅 镀，并将已溅镀的盘片旋转传输到第二溅镀腔，在所述第一溅镀腔和第 二溅镀腔内盘片被抽真空至高真空。由所述第二溅镀腔在磁场的作用下 将所述已溅镀的膜厚继续溅镀到膜厚B，所述膜厚B为预定设置的要溅 镀的总膜厚，膜厚B≥膜厚A，且均为常数。本发明可以使溅镀后的光 盘膜层厚度均匀，同时可以在较低功率、较短时间下溅镀薄膜，避免了 盘片升温而变形，也降低了光盘生产周期。 ： 【专利类型】发明授权 【申请人】东莞宏威数码机械有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】523080广东省东莞市南城区石鼓村大龙路6号 【申请人地区】中国 【申请人城市】东莞市 【申请人区县】东莞市 【申请号】CN200810097817.X 【申请日】2008-05-15 【申请年份】2008 【公开公告号】CN100582293C 【公开公告日】2010-01-20 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN100582293C 【授权公告日】2010-01-20 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C23C14/34 【发明人】范继良; 杨明生; 谢金桥; 刘涛; 王勇 【主权项内容】1.一种溅镀方法，包括以下步骤： 取来待溅镀的盘片并将其抽真空至预真空后，将所述盘片旋转传输 到第一溅镀腔，在所述第一溅镀腔中包括产生磁场的第一阴极； 通过所述第一溅镀腔进行溅镀，在达到预定设置的膜厚A时停止溅 镀，并将已溅镀的盘片旋转传输到第二溅镀腔，在所述第二溅镀腔中包 括产生磁场的第二阴极，并且所述第二阴极产生的磁场与所述第一阴极 产生的磁场互补；以及 由所述第二溅镀腔将所述已溅镀的膜厚继续溅镀到膜厚B，所述膜 厚B为预定设置的要溅镀的总膜厚，膜厚B≥膜厚A，且均为常数。 【当前权利人】河南凯瑞数码股份有限公司 【当前专利权人地址】河南省安阳市高新技术产业开发区海河大道东段 【专利权人类型】有限责任公司(中外合资) 【统一社会信用代码】91441900721185172B 【引证次数】4.0 【被引证次数】4 【他引次数】4.0 【被他引次数】4.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】8
