【摘要】 本发明公开了一种激光照排胶片的生产方法，包括双注乳化工序，除杂工序、熟化工序，涂布工序，其特征在于：所述的除杂工序包括：a)沉降工序、b)水洗工序、c)复溶工序、d)沉降工序、e)水洗工序、f)复溶工序，本发明与现有技术相比，采用一次以上复溶的方法除去乳剂里面的多种杂质，控制方法比较简单，不增加设备，每批乳剂性能稳定，涂布质量及胶片的稳定性较好。 【专利类型】发明授权 【申请人】黄山银江科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】245700 安徽省黄山市黄山区工业园区 【申请人地区】中国 【申请人城市】黄山市 【申请人区县】黄山区 【申请号】CN200810020598.5 【申请日】2008-02-04 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101256346B 【公开公告日】2010-09-29 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101256346B 【授权公告日】2010-09-29 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03C1/047; G03C1/005 【发明人】何向明; 翁宏飏; 陈磊; 蒋延宁 【主权项内容】一种激光照排胶片的生产方法，包括双注乳化工序、除杂工序、熟化工序、涂布工序，其特征在于：所述的除杂工序包括以下工序：a)沉降工序：沉降工序所用的沉降剂为萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比为1∶5-10；b)水洗工序：调节膏体的PH＝3.5±0.2，静置，抽去上层清液，搅拌下使用纯水进行水洗，水洗至膏体的电导率＜800μS/cm；c)复溶工序：加入Na2CO3溶液，升温到38-40℃，将膏体溶解即可；d)沉降工序：在c)复溶工序所生成的溶液中加入沉降剂，所用的沉降剂为萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比为1∶10-20；e)水洗工序：调节膏体的PH＝3.5±0.2，静置，抽去上层清液，搅拌下使用纯水进行水洗，水洗至膏体的电导率＜800μS/cm；f)复溶工序：在水洗好的膏体中加入Na2CO3溶液，升温到38-40℃，补加明胶，搅拌溶解，调节膏体的PH＝4.7±0.2，即可。 ： 【当前权利人】黄山金瑞泰科技股份有限公司 【当前专利权人地址】安徽省黄山市黄山太平经济开发区 【引证次数】7.0 【他引次数】7.0 【家族引证次数】7.0
