【摘要】 一种高硬度类金刚石多层薄膜的制备方法，其步骤为，先对基体进行溅射清洗，然后用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积类金刚石薄膜，沉积作法为：关闭真空室，抽真空到10-3Pa，开启石墨阴极弧源，在基体上加-50V～-200V的负偏压；同时，周期性地通入99.99％氩气，控制周期为120-600秒，通入氩气时间为控制周期的10％～50％，通气时真空室内的氩气压强为0.01～0.1Pa；关闭氩气的时间为控制周期的90％～50％，此时真空室的真空度为10-4～10-3Pa；控制周期3～50个。其工艺简单，成本低廉，制得的薄膜结合力强，硬度高、厚度大，应力小，机械、摩擦学性能优异；在工业应用领域有广泛的应用空间。。： 【专利类型】发明授权 【申请人】西南交通大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】610031 四川省成都市二环路北一段111号 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】金牛区 【申请号】CN200810045214.5 【申请日】2008-01-18 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101298656B 【公开公告日】2010-07-21 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101298656B 【授权公告日】2010-07-21 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C23C14/06; C23C14/22 【发明人】冷永祥; 孙鸿; 黄楠; 石志峰 【主权项内容】一种高硬度类金刚石多层薄膜的制备方法，其步骤为，先对基体进行溅射清洗，然后沉积类金刚石薄膜，其特征在于，所述的沉积类金刚石薄膜的方法为磁过滤阴极真空弧沉积方法，其具体作法为：关闭磁过滤阴极真空弧沉积设备的真空室，抽真空到10-3Pa，¼启石墨阴极弧源，并在基体材料上加-50V～-200V的负偏压，在基体表面沉积类金刚石薄膜；在沉积过程中，通过氩气流量自动控制系统，周期性地通入99.99％高纯氩气，控制周期为120-600秒，通入高纯氩气时间为控制周期的10％～50％，通气时真空室内的氩气压强为0.01～0.1Pa；关闭高纯氩气的时间则为控制周期的90％～50％，此时真空室内的真空度为10-4～10-3Pa；控制周期为3～50个。 【当前权利人】西南交通大学 【当前专利权人地址】四川省成都市二环路北一段111号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12100000450752090P 【被引证次数】1 【被自引次数】1.0 【家族被引证次数】30
