【摘要】 一种具有面积微分的球面光刻系统，由光源、照明系统、掩模图形发生器、计算机控制系统、投影成像系统和载物台组成；光源提供照明光，该照明光通过照明系统平行均匀化后，照明掩模图形发生器，计算机控制系统控制掩模图形发生器提供掩模图形，同时根据样品的曲率和投影成像系统的焦深将曝光场细分为若干面元，使掩模图形发生器对于单个面元成像不离焦，投影成像系统将掩模图形发生器提供的掩模图形成像于安装于载物台的样品上，计算机控制系统根据球面样品的曲率确定载物台的摆动长度以及二维运动，对平面掩模进行面积微分，实现不同曲率样品的表面拼接光刻。本发明对球面样品的投影曝光光刻具有很好的灵活性和可操作性，尤其对不同曲率半径球面样品的曝光光刻，显示了特有的优势。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院光电技术研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】610209 四川省双流350信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】双流区 【申请号】CN200810056381.X 【申请日】2008-01-17 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101216684B 【公开公告日】2010-06-30 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101216684B 【授权公告日】2010-06-30 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】赵立新; 邢薇; 唐小萍; 胡松 【主权项内容】一种具有面积微分的球面光刻系统，其特征在于：它由光源(1)、照明系统(2)、掩模图形发生器(3)、计算机控制系统(4)、投影成像系统(5)和载物台(6)组成；光源(1)为光刻系统提供所需曝光波长的照明光，该照明光通过照明系统(2)平行化和均匀化后，照明掩模图形发生器(3)，通过计算机控制系统(4)控制掩模图形发生器(3)提供掩模图形，同时计算机控制系统(4)根据样品的曲率和投影成像系统(5)的焦深将曝光场细分为若干面元，使掩模图形发生器(3)对于单个面元成像不离焦，投影成像系统(5)将掩模图形发生器(3)提供的掩模图形成像于安装于载物台(6)的样品上，计算机控制系统(4)根据球面样品的曲率确定载物台(6)的摆动长度以及二维运动，对平面掩模进行面积微分，实现不同曲率样品的表面拼接光刻。。 【当前权利人】中国科学院光电技术研究所 【当前专利权人地址】四川省双流350信箱 【统一社会信用代码】12100000450811820A 【家族被引证次数】7
