【摘要】 本发明公开一种平面光源结构，其由上基板、下基板、凹槽结构及粘胶所构成。其中，下基板面对上基板设置，且此下基板具有多个阻隔壁。上述的阻隔壁与上基板形成多个发光腔体。凹槽结构位于下基板面对上基板的表面的边缘上。而粘胶也配置于上述的表面的边缘，用以黏合上基板与下基板。 【专利类型】发明授权 【申请人】友达光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810176817.9 【申请日】2008-11-25 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101418916B 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101418916B 【授权公告日】2010-06-16 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】F21S2/00; F21V15/02; F21V17/10; G02F1/13357N; F21Y105/00N; F21Y105/00; G02F1/13357 【发明人】许弘儒; 李岳蓉; 许宏彬; 林裕凯; 朱隆森 【主权项内容】一种平面光源结构，包含：上基板；下基板，面对该上基板设置，且具有多个阻隔壁，其中该些阻隔壁与该上基板形成多个发光腔体；凹槽结构，位于该下基板面对于该上基板的一表面的边缘上；以及粘胶，配置于该表面的边缘，用以粘合该上基板与该下基板，其中该粘胶部分容置于该凹槽结构中，而另一部分的该粘胶涂布于该下基板面对于该上基板的该表面的边缘上，所述凹槽结构设置于该粘胶的所述另一部分与所述发光腔体之间。。 【当前权利人】友达光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹市 【家族被引证次数】5
