【摘要】 本发明涉及一种用于制造发光元件的基板以及利用所述基板制造的发 光元件，所述基板包括：至少一个平台区，具有外延生长的第一晶面方向； 以及多个连续的凸部，围绕所述平台区而彼此连接，以使所述平台区与另 一平台区隔离，所述多个连续的凸部的晶面方向大致上不包含所述第一晶 面方向。由于所述多个连续的凸部的晶面方向大致上不包含外延生长的方 向，当形成发光元件时，外延主要在所述平台区上成长，可避免外延缺陷 的产生，因而可提高发光元件的外部量子效率。 ： 【专利类型】发明申请 【申请人】广镓光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台中市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810214289.1 【申请日】2008-08-29 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101661981A 【公开公告日】2010-03-03 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101661981B 【授权公告日】2014-10-22 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】H01L33/00 【发明人】程志青 【主权项内容】1、一种用于制造发光元件的基板，包括： 至少一个平台区，具有供外延生长的第一晶面方向；以及 多个连续的凸部，围绕所述平台区，以使平台区与另一平台区隔离， 所述多个连续的凸部的晶面方向大致上不包含所述第一晶面方向。 【当前权利人】晶元光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹市 【家族引证次数】4.0
