【摘要】 一种微型显示器的制作方法，其是先提供具有像素区与周边电路区的基底，其中像素区已形成有金属反射层，且周边电路区已形成有周边电路。然后，在基底上形成介电层，以覆盖像素区与周边电路区。接着，在介电层上形成图案化掩模层，此图案化掩模层暴露出位于金属反射层上方的介电层。而后，以图案化掩模层为掩模，移除暴露出的介电层的一部分。继之，移除图案化掩模层。之后，移除部分介电层，以暴露出金属反射层。 【专利类型】发明申请 【申请人】联华电子股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹科学工业园区 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810173464.7 【申请日】2008-11-14 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101740497A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】H01L21/82; H01L21/822; H01L21/311 【发明人】李政勋; 吴沂庭; 孙伟宸; 姜元升 【主权项内容】一种微型显示器的制作方法，包括：提供基底，该基底具有像素区与周边电路区，其中该像素区已形成有金属反射层，且该周边电路区已形成有周边电路；于该基底上形成介电层，以覆盖该像素区与该周边电路区；于该介电层上形成图案化掩模层，该图案化掩模层暴露出位于该金属反射层上方的该介电层；以该图案化掩模层为掩模，移除暴露出的该介电层的一部分；移除该图案化掩模层；以及移除部分该介电层，以暴露出该金属反射层。 【当前权利人】联华电子股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹科学工业园区 【引证次数】4.0 【自引次数】2.0 【他引次数】2.0 【家族引证次数】4.0
