【摘要】 本发明提供一种辐射敏感组成物的制作方法，该方法包含：首先提供50-95wt％的多羟基聚合物。然后将0.1-40wt％的异氰酸酯衍生物及0-10wt％对应该异氰酸酯的催化剂与该多羟基聚合物进行交联反应。最后将0.5-45wt％的辐射敏感化合物及1-15wt％的着色剂与上述交联反应的产物进行混合。本发明以市场上易于取得的材料搭配简单且易于控制的化学反应而制得，并毋需使用特殊的高分子聚合物、共聚合物、或他其化学物质，且其组成配方可依产业不同的需要立即快速调整。此外，本发明更提供一种以上述制作方法制得的辐射敏感组成物。 【专利类型】发明申请 【申请人】品青企业股份有限公司; 王童基; 叶景裕 【申请人类型】个人,企业 【申请人地址】中国台湾宜兰县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810187339.1 【申请日】2008-12-26 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101762973A 【公开公告日】2010-06-30 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G03F7/004; C08L75/04; C08L75/00 【发明人】叶景裕; 杨明华; 林明贤; 陈世杰 【主权项内容】一种辐射敏感组成物的制作方法，其特征在于，包含下列步骤：(A)提供50-95wt％的多羟基聚合物；(B)将0.1-40wt％的异氰酸酯衍生物及0-10wt％对应该异氰酸酯的催化剂与该多羟基聚合物进行交联反应；(C)将0.5-45wt％的辐射敏感化合物及1-15wt％的着色剂与上述交联反应的产物进行混合。 【当前权利人】品青企业股份有限公司; 王童基; 叶景裕 【当前专利权人地址】中国台湾宜兰县; ; 【引证次数】29.0 【被引证次数】1 【他引次数】29.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】29.0 【家族被引证次数】1
