【摘要】 本发明属于金属材料制备领域，尤其适用于一种快淬非晶合金薄带及其制备方法。该快淬非晶合金薄带的制备方法，包括配料、真空熔炼、二次熔化、喷带和收取，其化学成分按照原子百分为：70-85％Fe，0.001-4％Nb或Nb、Mo、W、V、Ta中的至少一种，0.001-25％Si，0.001-15％B，0.001-2％Cu，0.005-0.08％Al和Ti中的至少一种。喷带步骤中喷嘴和冷却辊之间形成动态稳定、两端向外凸的弧形熔潭，熔潭温度为1180-1300℃；喷嘴缝宽度D为0.1-0.4毫米，冷却辊和喷嘴间距为0.1-0.4毫米；薄带的厚度为18-24微米，粗糙度Ra小于2微米。该薄带具极薄的厚度和优异的表面质量和磁性能，适合制造高品质的铁心元件。尤其适合更高频率下的使用，具有更低的高频损耗和更优良的频率特性。 【专利类型】发明授权 【申请人】安泰科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100081 北京市海淀区学院南路76号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810247383.7 【申请日】2008-12-29 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101445896B 【公开公告日】2010-09-29 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101445896B 【授权公告日】2010-09-29 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】B22D11/06 【发明人】王立军; 刘国栋; 陈文智; 王六一 【主权项内容】一种快淬非晶合金薄带，使用上注或下注方式制带，其特征在于：其化学成分按照原子百分为：70-85％Fe，0.001-4％Nb或Nb、Mo、W、V、Ta中的至少一种，0.001-25％Si，0.001-15％B，0.001-2％Cu，0.005-0.08％Al和Ti中的至少一种；喷带步骤中喷嘴和冷却辊之间形成动态稳定、两端向外凸的“凸”形熔潭，熔潭温度为1180-1300℃；所述薄带的厚度为18-24微米，粗糙度Ra小于2微米。 【当前权利人】安泰非晶科技有限责任公司 【当前专利权人地址】北京市海淀区学院南路76号62幢二层212房间 【专利权人类型】其他股份有限公司(上市) 【统一社会信用代码】911100006337153487 【引证次数】8.0 【被引证次数】5 【自引次数】4.0 【他引次数】4.0 【被他引次数】5.0 【家族引证次数】8.0 【家族被引证次数】36
