【摘要】 本发明公开一种反应腔室，其设置有与真空泵相连的真空泵接口， 对应于腔室内的拐角位置设置导流部，所述导流部的形状和设置方向顺 应腔室内的气流方向，用以减小甚至避免腔室内的气流在此出现反射以 及湍流现象。此外，本发明还提供一种等离子体处理系统，其具有本发 明提供的上述反应腔室。本发明提供的反应腔室和等离子体处理系统能 够减少甚至避免腔室内的颗粒污染，进而提高工件的加工/处理质量、 工艺成品率以及抽气速度。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810117297.4 【申请日】2008-07-28 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101640165A 【公开公告日】2010-02-03 【公开公告年份】2010 【发明人】张之山 【主权项内容】1.一种反应腔室，其设置有与真空泵相连的真空泵接口，其特征 在于，对应于腔室内的拐角位置设置导流部，所述导流部的形状和设置 方向顺应腔室内的气流方向，用以减小甚至避免腔室内的气流在此出现 反射以及湍流现象。。 【当前权利人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】TRUE 【家族被引证次数】TRUE
