【摘要】 本发明提供了一种灌注成像技术中对位图进行处理的方法和系统，在设 置的关键时刻对被扫描部位进行CT扫描，得到各关键时刻对应的位图；分 别利用各像素在各位图中的CT值进行差值处理或拟合处理，获取各像素的 时间密度曲线(TAC)；按照预设的处理策略利用各像素的TAC获取被扫描 部位的特征参数。本发明提供的方法和系统仅需要在设置的少量几个关键时 刻进行CT扫描，而不必像现有技术一样，为了获取被扫描部位的完整信息， 需要采用很小的时间间隔频繁地对被扫描部位进行扫描以获取大量的位图， 因此，本发明可以减少扫描过程中对被扫描部位的扫描次数，减轻了扫描时 X射线对人体的伤害。 【专利类型】发明申请 【申请人】西门子(中国)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100102北京市朝阳区望京中环南路7号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810146956.7 【申请日】2008-08-28 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101658428A 【公开公告日】2010-03-03 【公开公告年份】2010 【发明人】杜光伟; 朱磊 【主权项内容】1、一种灌注成像技术中对位图进行处理的方法，其特征在于，该方法 包括： A、获取在设置的关键时刻对被扫描部位进行CT扫描所得到的各关键 时刻对应的位图； B、分别利用各像素在所述各位图中的CT值进行差值或拟合处理，确 定各像素的时间密度曲线TAC； C、按照预设的处理策略利用所述各像素的时间密度曲线TAC获取被扫 描部位的特征参数信息。 【当前权利人】西门子(中国)有限公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区望京中环南路7号 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】91110000625907585K 【被引证次数】TRUE 【家族被引证次数】TRUE
