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液晶面板中离子浓度的分析方法和装置专利

发布时间:2026-06-10

【摘要】 本发明公开了一种液晶面板中离子浓度的分析方法和装置,其中方法包 括:分别调整测试液晶面板和标准液晶面板的公共电压,并得到测试液晶面 板的第一公共电压和标准液晶面板的第一公共电压;根据选取的测试电压, 分别调整测试液晶面板和标准液晶面板的第一公共电压;在测试液晶面板和 标准液晶面板中分别加载第一图像,并将第一图像在测试液晶面板和标准液 晶面板中保持一段时间;将加载的第一图像切换为第二图像;根据测试液晶 面板和标准液晶面板中的所述第二图像中出现的残像的程度分析测试液晶面 板中的离子浓度。液晶面板中离子浓度的分析装置包括调整模块和加载模块。 本发明减小了对液晶面板的损害,减少了浓度分析所需的时间。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京京东方光电科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100176北京市经济技术开发区西环中路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】大兴区 【申请号】CN200810118242.5 【申请日】2008-08-11 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101650480A 【公开公告日】2010-02-17 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101650480B 【授权公告日】2011-04-13 【授权公告年份】2011.0 【发明人】赵海玉 【主权项内容】1、一种液晶面板中离子浓度的分析方法,其特征在于,包括: 分别调整测试液晶面板和标准液晶面板的公共电压,并得到所述测试液 晶面板的第一公共电压和所述标准液晶面板的第一公共电压; 根据选取的测试电压,分别调整所述测试液晶面板和所述标准液晶面板 的第一公共电压; 在所述测试液晶面板和所述标准液晶面板中分别加载第一图像,并将所 述第一图像在所述测试液晶面板和所述标准液晶面板中保持一段时间; 将加载的所述第一图像切换为第二图像; 根据所述测试液晶面板和所述标准液晶面板中的所述第二图像中出现的 残像的程度,分析所述测试液晶面板中的离子浓度。 【当前权利人】京东方科技集团股份有限公司; 北京京东方光电科技有限公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥路10号; 北京市大兴区北京经济技术开发区西环中路8号 【专利权人类型】有限责任公司(台港澳与境内合资) 【统一社会信用代码】911103027493533932 【被引证次数】TRUE 【家族被引证次数】TRUE

  • 【摘要】一种节约资源的木地板锯切方法,其特征在于:在未分割的木地板的分割线的上下两侧分别采用上切割锯片和下切割锯片上下相对进刀切割,该上切割锯片和下切割锯片相对角的一方或双方为锐角,两个锯片的相邻的一面有一定量的相互重合。本发明的优点是达到
  • 【摘要】本发明公开了一种激光干涉法差动测量微冲量扭摆装置,解决现有扭摆的精度不高、离焦、及冲击力加载产生的平动问题。包括扭摆部分和激光干涉部分;其中扭摆部分包括竖杆、上横杆和下横杆组成的形框架,斜梁,升降调节机构和平移调节机构;在形框架的上
  • 【摘要】本发明是一种侧结晶式金属真空冶炼还原罐,所述的还原罐竖直放置在还原 炉的炉体内,其上、下两端伸出所述的炉体,所述的还原罐内固设有一个导流筒, 所述的导流筒呈中空筒状,导流筒外壁与还原罐的内壁之间具有间隙,所述的间 隙可供球团料放置,
  • 【摘要】镁业还原罐专用不锈钢焊条属于焊接材料领域。本发明焊条是由下述粉原料混合并加入粉原料总重量25%的2.8M、48°Be钾钠水玻璃,搅拌均匀,压涂于不锈钢焊芯上而成:粉原料重量份配比:大理石43-52份;萤石16-23份;钛白粉1-3份
  • 【专利类型】外观设计【申请人】北京昌日新能源科技有限公司【申请人类型】企业【申请人地址】102200北京市昌平区水库路东【申请人地区】中国【申请人城市】北京市【申请人区县】昌平区【申请号】CN200830131089.0【申请日】2008-
  • 【摘要】一种根据环境控制提供流体的装置和方法。装置包括:流体输入口,用于 连接到供给流体的装置;检测传感器,用于检测传感器周围的环境;处理器及 开关装置,耦合到所述流体输入口,接收所述检测传感器的信号,根据预定的 规则控制开关打开或关闭流体