【摘要】 本发明公开了一种取向膜摩擦工艺及设备，涉及液晶显示器件的加工工艺和设备，解决了现有取向膜摩擦工艺中会出现取向膜沟痕不均匀、生产效率低的情况。本发明实施例包括：在固定装置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承载装置上承载摩擦布，所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态；然后在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动；并且在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触；最后分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。本发明实例主要用于液晶显示器件加工过程中，对薄膜进行摩擦得到取向膜的工艺中，例如：在彩色滤光片基板和TFT阵列基板形成取向膜的工艺。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京京东方光电科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100176北京市北京经济技术开发区西环中路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】大兴区 【申请号】CN200810247543.8 【申请日】2008-12-30 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101770115A 【公开公告日】2010-07-07 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101770115B 【授权公告日】2011-08-24 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】G02F1/1337 【发明人】车春城 【主权项内容】一种取向膜摩擦工艺，其特征在于，包括：在固定装置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承载装置上承载摩擦布，所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态；该工艺还包括：(1)在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动；(2)在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触；(3)分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。 【当前权利人】京东方科技集团股份有限公司; 北京京东方光电科技有限公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥路10号; 北京市大兴区北京经济技术开发区西环中路8号 【专利权人类型】有限责任公司(台港澳与境内合资) 【统一社会信用代码】911103027493533932 【被引证次数】6 【被自引次数】2.0 【被他引次数】4.0 【家族被引证次数】6
