【摘要】 本发明涉及一种灯反射结构和背光源,其中上述灯反射结构包括: 内层罩和外层罩,上述内层罩和外层罩之间互相支撑,形成分别用于放置灯 线和灯管的两个腔体。上述灯反射结构和背光源,通过设置外层罩和内层罩 有效地提高了光的利用率;通过形成分别用于放置灯线和灯管的两个腔体来 保护灯线,防止背光源组装时划伤灯线带来的触电,避免出现电流不均衡等 问题;通过设置凹槽腔来保护面板驱动芯片;通过设置固定塑料,消除了导 光板碾碎灯管的隐患。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京京东方光电科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100176北京市经济技术开发区西环中路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】大兴区 【申请号】CN200810118243.X 【申请日】2008-08-11 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101649997A 【公开公告日】2010-02-17 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101649997B 【授权公告日】2011-08-31 【授权公告年份】2011.0 【发明人】刘海军 【主权项内容】1、一种灯反射结构,其特征在于包括内层罩和外层罩,所述内层罩和 外层罩之间互相支撑,形成分别用于放置灯线和灯管的两个腔体。 【当前权利人】京东方科技集团股份有限公司; 北京京东方光电科技有限公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥路10号; 北京市大兴区北京经济技术开发区西环中路8号 【专利权人类型】有限责任公司(台港澳与境内合资) 【统一社会信用代码】911103027493533932 【被引证次数】TRUE 【家族被引证次数】TRUE