【摘要】 本发明公开了一种化学机械抛光液，其包含磨料颗粒，其还含有下述有 机盐中的一种或多种：脂肪胺的盐酸盐、脂肪胺的硫酸盐、酰胺的盐酸盐、 酰胺的硫酸盐、氨基酸的盐酸盐和氨基酸的硫酸盐。本发明的化学机械抛光 液通过化学方法在酸性或碱性条件下均能够提高二氧化硅介电材料 (PETTEOS)的去除速率，且能在相对较低的磨料粒子含量下具有较高的氧 化硅去除速率和较高的平坦化效率，材料表面无划伤，无腐蚀。 【专利类型】发明申请 【申请人】安集微电子(上海)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】浦东新区 【申请号】CN200810200575.2 【申请日】2008-09-26 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101684391A 【公开公告日】2010-03-31 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】C09G1/02 【发明人】宋伟红; 姚颖 【主权项内容】1、一种化学机械抛光液，其包含磨料颗粒和水，其特征在于：其还含 有下述有机盐中的一种或多种：脂肪胺的盐酸盐、脂肪胺的硫酸盐、酰胺的 盐酸盐、酰胺的硫酸盐、氨基酸的盐酸盐和氨基酸的硫酸盐。 【当前权利人】安集微电子(上海)有限公司 【当前专利权人地址】上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 【专利权人类型】有限责任公司(外商投资企业法人独资) 【统一社会信用代码】91310000766495270K 【引证次数】2.0 【被引证次数】5 【他引次数】2.0 【被自引次数】3.0 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】5
