【摘要】 本发明公开了一种硅片清洗液，主要由乙醇和氢氟酸经混合配成，所述乙醇与氢氟酸的体积比为35～45∶1，所述乙醇的质量百分比浓度为18％～100％，所述氢氟酸由氟化氢和去离子水配成，其质量百分比浓度为48％～50％。本发明还公开了一种清洗硅片的方法，包括步骤：用去离子水清洗硅片；采用上述硅片清洗液清洗硅片。本发明的硅片清洗液及其清洗方法，能有效去除有机物沾污，提高氢氟酸清洗液的背面清洗效果。 【专利类型】发明授权 【申请人】深圳深爱半导体有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518029 广东省深圳市福田区八卦三路光纤小区2栋3楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】福田区 【申请号】CN200810067515.8 【申请日】2008-05-29 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101503650B 【公开公告日】2010-12-22 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101503650B 【授权公告日】2010-12-22 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C11D7/26; H01L21/306; H01L21/311; C11D7/08 【发明人】李杰 【主权项内容】一种硅片清洗液，其特征在于，主要由乙醇和氢氟酸经混合配成，所述乙醇与氢氟酸的体积比为35～45∶1，所述乙醇的质量百分比浓度为18％～100％，所述氢氟酸由氟化氢和去离子水配成，其质量百分比浓度为48％～50％。 【当前权利人】深圳深爱半导体股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市龙岗区宝龙工业城宝龙七路3号 【引证次数】2.0 【被引证次数】3 【他引次数】2.0 【被他引次数】3.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】9
